石英坩堝電弧鋇

本實用新型涉及一種石英坩堝,尤其是涉及一種具有鋇涂層的石英坩堝。背景技術:用電弧法制的半透明石英坩堝是拉制大直徑單晶硅,發展大規模集成電路必不可少的...2.現代的石英坩堝 現代拉單晶的石英坩堝一般是采用電弧法生產,半透明狀,是拉制由于硅酸鋇的存在,使得石

2.現代的石英坩堝 現代拉單晶的石英坩堝一般是采用電弧法生產,半透明狀,是拉制由于硅酸鋇的存在,使得石英坩堝壁上形成一層致密微小的方石英結晶...1.石英坩堝可在1450度以下使用,分透明和不透明兩種。 用電弧法制的半透明石英坩堝氧化鋇溶液使其形成致密層,其致密層能阻止單晶硅高溫拉制過程中硅與石英坩堝反

答案: 首先,氧的的主要來源是熔硅與石英坩堝反應,99%的氧揮發掉,1%的隨單晶的生長,進入硅棒中,所以和是否涂層沒有關系,除非不用坩堝,但是不可能的。 更多關于石英坩堝電弧鋇的問題>>...答案: 1.石英坩堝可在1450度以下使用,分透明和不透明兩種。用電弧法制的半透明石英坩堝是拉制大直徑單晶硅,發展大規模集成電路必不可少的基礎材料。當今,世界更多關于石英坩堝電弧鋇的問題>>

這層氫氧化鋇會與空氣中的二氧化碳反應形成碳酸鋇。而當這種石英坩堝在單晶爐上被加熱時,碳酸鋇會分解形成氧化鋇,隨著氧化鋇與石英坩堝反應形成硅酸鋇...這是因為鋇在硅中的平衡偏析系數非常小,使得它在硅晶棒中的濃度也很小,因而不會影響晶棒的品質。通常的做法是將石英坩堝壁涂上一層含有結晶水的氫氧化鋇飽和的
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