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氧化方法有干氧氧化和水汽氧化（含氫氧合成）兩種,擴散爐是用這兩種氧化方法制備氧化層的必備設備。擴散爐是半導體集成電路工藝的基礎設備,它與半導體工藝互相依存、互相促進、共同發展...